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光學(xué)鍍膜的特點(diǎn)

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光學(xué)鍍膜的特點(diǎn)

發(fā)布日期:2021-08-17 00:00:00 作者: 點(diǎn)擊:0

  光學(xué)鍍膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)薄層。在這種情況下,可以用光的干涉理論來研究光學(xué)鍍膜的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)一束單色平面波入射到光學(xué)鍍膜上時(shí),在它的兩個(gè)表面上發(fā)生多次反射和折射,反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出,反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確定(見光在分界面上的折射和反射)。

光學(xué)鍍膜

  鍍膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代?,F(xiàn)代,光學(xué)薄膜已廣泛用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域,制造各種光學(xué)儀器。

  光學(xué)鍍膜的特點(diǎn)是:表面光滑,膜層之間的界面呈幾何分割,膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變,但在膜層內(nèi)是連續(xù)的,可以是透明介質(zhì),也可以是光學(xué)薄膜。


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