光學(xué)鍍膜是利用光的干涉作用在薄膜光學(xué)中廣泛應(yīng)用的一種光學(xué)材料。光學(xué)薄膜技術(shù)常用的方法是通過(guò)真空濺射在玻璃基板上鍍膜，一般用于控制基板對(duì)入射光束的反射率和透射率，以滿足不同的需求。為了消除光學(xué)部件表面的反射損失，提高成像質(zhì)量，鍍膜一層或多層透明介電膜，稱為減反射膜或減反射膜。

光學(xué)零件表面鍍膜后，光線在膜層上多次反射透射，形成多束干涉，控制薄膜層的折射率和厚度，可得到不同的強(qiáng)度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。

真空鍍膜:真空鍍膜主要是指需要較高真空的鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等鍍膜，所以。有兩種主要類型的蒸發(fā)和濺射。將所述電鍍材料制成底物，將所述電鍍材料用作靶材或藥物。襯底與目標(biāo)處于相同的真空中。

常見(jiàn)的光學(xué)鍍膜材料如下:

1、氟化鎂材料特點(diǎn):無(wú)色四方粉末，純度高，用其制備的光學(xué)涂料可提高透光率，無(wú)斷點(diǎn)。

2、二氧化硅材料特點(diǎn):無(wú)色透明晶體，熔點(diǎn)高，硬度高，化學(xué)穩(wěn)定性好。純度高，用它制備出高質(zhì)量的Si02涂層，蒸發(fā)狀態(tài)好，無(wú)斷點(diǎn)。按使用要求分為紫外線、紅外線和可見(jiàn)光。

3、氧化鋯材料特點(diǎn)為白色重結(jié)晶狀態(tài)，具有高折射率和耐高溫性，化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，純度高，用其制備出優(yōu)質(zhì)氧化鋯涂料，無(wú)斷裂點(diǎn)