光學鍍膜是一種將多層光學薄膜沉積到光學元件表面上的技術(shù)，以改變光學元件的反射、透射、吸收等光學性質(zhì)，從而實現(xiàn)各種光學器件的設(shè)計和應用。依據(jù)不同的沉積方式和沉積設(shè)備的工作原理，可以將光學鍍膜分為以下幾種方式：物理氣相沉積（PVD）、化學氣相沉積（CVD）、電子束蒸發(fā)（EBE）、離子束沉積（IBS）和濺射沉積（MS）。以下是對這些方式的簡要介紹：

　　物理氣相沉積（PVD）

　　物理氣相沉積是通過將材料加熱使其蒸發(fā)，并沉積在光學元件表面上。薄膜的組成和性質(zhì)由所用的材料、沉積速率、氣壓等因素決定。

　　化學氣相沉積（CVD）

　　化學氣相沉積是通過在高溫下將反應氣體加入到反應室中，使其和基體表面反應，并沉積出所需的薄膜。具有優(yōu)秀的均勻性、純度、致密性等特點。

　　電子束蒸發(fā)（EBE）

　　電子束蒸發(fā)是通過高速運動的電子束轟擊材料表面，使其蒸發(fā)并沉積在基底表面上。薄膜的厚度和光學性質(zhì)可以通過控制電子束的運動速度和功率進行調(diào)節(jié)。

　　離子束沉積（IBS）

　　離子束沉積是通過將材料的原子或離子通過加速器加速到高速，然后通過靶材表面形成的離子束，轟擊光學元件表面，使其沉積上薄膜。該方式制備的薄膜具有非常高的均勻性和致密性。

　　濺射沉積（MS）

　　濺射沉積是通過將材料放置于高壓惰性氣體環(huán)境下，通過真空電弧等設(shè)備將材料離子化，并加速到光學基底表面，沉積成膜。這種方法可以用于各種材料的沉積，控制沉積過程也比較簡單，但常常需要使用大量的材料。