真空鍍膜加工是一種通過在物體表面形成薄膜來改善其性能或外觀的工藝。以下是真空鍍膜加工的一些常見技術要求：

　　1. 清潔度要求：在進行真空鍍膜前，物體表面必須要徹底清潔，以確保在膜形成過程中不會有雜質(zhì)或污染物附著在物體表面。

　　2. 良好的表面平整度：物體表面應該保持光滑且平整，以避免在膜形成過程中出現(xiàn)不均勻或凹凸不平的問題。

　　3. 材料適應性：不同的物體表面材料對于不同的鍍膜材料有不同的適應性要求。需要根據(jù)物體的材料特性選擇合適的鍍膜材料和工藝參數(shù)。

　　4. 膜的附著力：鍍膜后的膜層必須具有良好的附著力，避免在使用過程中發(fā)生脫落或剝離。

　　5. 鍍膜厚度控制：根據(jù)具體需求，需要對鍍膜的厚度進行控制，以保證膜層的均勻性和穩(wěn)定性。

　　6. 鍍膜材料純度要求：鍍膜材料的純度的鍍膜有很大的影響，高純度的材料可以獲得更好的膜層質(zhì)量。

　　7. 工藝參數(shù)控制：包括真空度、沉積速率、鍍膜溫度等參數(shù)的控制，以確保膜層的均勻性和質(zhì)量。

　　以上是真空鍍膜加工的一些常見技術要求，具體需求會根據(jù)不同的應用和材料而有所變化。