1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

　　2、光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。

　　二、原理的區(qū)別

　　1、真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法。

　　薄膜材料生長在基體材料(如玻璃、光學玻璃等)上，通常由金屬、非金屬、合金或復(fù)合材料的涂層形成。它具有高滲透性、吸收性、截止性、光分離性、反射性、過濾性、干擾性、防護性、防水防污性、抗靜電性、導電性、導磁性、絕緣性、耐磨性。具有耐高溫、耐腐蝕、耐氧化、防輻射、裝飾重組等功能，可提高產(chǎn)品質(zhì)量、環(huán)保、節(jié)能、延長產(chǎn)品使用壽命。提高原有性能等。目前，薄膜的制備技術(shù)主要包括物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)。

　　薄膜材料生長于基板材料(如屏顯玻璃、光學玻璃等)之上，一般由金屬、非金屬、合金或化合物等材料經(jīng)過鍍膜后形成，具有增透、吸收、截止、分光、反射、濾光、干涉、保護、防水防污、防靜電、導電、導磁、絕緣、耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、裝飾和復(fù)合等功能，并能夠提高產(chǎn)品質(zhì)量、環(huán)保、節(jié)能、延長產(chǎn)品壽命改善原有性能等。目前，薄膜材料制備技術(shù)主要包括物理氣相沉積(PVD)技術(shù)和化學氣相沉積(CVD)技術(shù)。