1.表面處理:通常,鍍膜之前,應(yīng)對(duì)基材(鍍件)進(jìn)行除油、除塵等預(yù)處理,以保證鍍件的整潔、干燥.

　　2.底涂:底涂施工時(shí),可以采用噴涂,也可采用浸涂,具體應(yīng)視鍍件大小、形狀、結(jié)構(gòu)及用戶設(shè)備等.

　　3.底涂烘干:SZ-97鍍膜油系列均為自干型漆,烘干的目的是為了提高生產(chǎn)效率。通常烘干的溫度.

　　4.鍍膜:鍍膜時(shí),應(yīng)保證鍍膜機(jī)的真空度達(dá)到要求后,再加熱鎢絲,并嚴(yán)格控制加 熱時(shí)間。同時(shí)應(yīng).

　　5.面涂:通常面涂的目的有以下兩個(gè)方面:A、提高鍍件的耐水性、耐腐蝕性、耐磨耗性;B、為水染...

　　真空鍍膜加工主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)du行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

　　需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

　　蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。 對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，然后形成薄膜。

　　典型的真空鍍膜，包括了錄像帶，數(shù)據(jù)磁帶DAT，以及很多電極的制作過程。