行業(yè)上的光學(xué)鍍膜多用于進行光學(xué)產(chǎn)品的加工，比如甲片、手機殼、鏡面產(chǎn)品等。光學(xué)鍍膜通常是λ/4光學(xué)鍍膜(QWOT)或λ/2光學(xué)鍍膜(wot)的波長所使用的光的應(yīng)用。這些薄膜以高折射率和低折射率交替出現(xiàn)，從而產(chǎn)生所需的干涉效應(yīng)(圖1)。要理解光學(xué)涂層，有必要了解折射和反射的菲涅耳方程。

折射是波從一種光學(xué)介質(zhì)向另一種光學(xué)介質(zhì)傳播方向的變化。在光學(xué)鍍膜材料的應(yīng)用中，鍍膜靶材料是通過不同靶材料中的不同稀有金屬形成不同光學(xué)鍍膜材料的核心技術(shù)。每一層光學(xué)涂層的鍍膜通常為數(shù)十至數(shù)百納米，單一的光學(xué)涂層可由數(shù)百層組成。因此，用于沉積這些層的技術(shù)需要很高的精度。當(dāng)一個光學(xué)涂層被集成到一個單片組件中以明確地控制光的光譜傳輸時，這個組件被稱為濾光片。